高等級(jí)鉆石生長(zhǎng)的工藝是采用化學(xué)氣相沉積（CVD）和微波等離子體CVD（MPCVD）技術(shù)，另外CVD和MPCVD工藝還可用于在鉆石以外的基材上進(jìn)行鉆石沉積，這為許多行業(yè)帶來(lái)了技術(shù)上的進(jìn)步，如光學(xué)、計(jì)算機(jī)科學(xué)和工具生產(chǎn)。

在采用CVD和MPCVD工藝進(jìn)行鉆石生長(zhǎng)過(guò)程中，需要嚴(yán)格調(diào)節(jié)和控制CVD工藝的溫度、真空壓力和氣體成分，這三個(gè)變量中的任何一個(gè)變化或波動(dòng)都會(huì)影響鉆石的生長(zhǎng)速度、純度和顏色。這三個(gè)變量在實(shí)際工藝中分別代表了溫度、真空壓力和工作氣體的質(zhì)量流量，即在CVD工藝中一般是在進(jìn)氣口處采用氣體質(zhì)量流量控制器控制氫氣和甲烷以達(dá)到設(shè)定的混合氣體成分，通過(guò)溫度傳感器和加熱裝置來(lái)調(diào)節(jié)和控制工作腔室內(nèi)的溫度，最后在出氣口處通過(guò)真空計(jì)和電動(dòng)閥門(mén)來(lái)調(diào)節(jié)和控制工作腔室內(nèi)的真空壓力。

 針對(duì)以上氣體質(zhì)量流量的控制環(huán)節(jié)，格里爾斯GRYLLS開(kāi)發(fā)了CVD（MPCVD)金剛石行業(yè)專(zhuān)用特氣氣路盤(pán)，該產(chǎn)品以隔膜閥，單向閥，EP級(jí)彎頭，微米級(jí)過(guò)濾器，質(zhì)量流量控制器MFC等零部件實(shí)現(xiàn)對(duì)多種工藝氣體的精確流量控制。

  經(jīng)過(guò)多年研發(fā)和經(jīng)驗(yàn)的沉積，格里爾斯GRYLLS質(zhì)量流量計(jì)的氣路盤(pán)，具有高密封性，高精度，集成度高等優(yōu)點(diǎn)，產(chǎn)品成熟穩(wěn)定已經(jīng)在多個(gè)CVD(MPCVD）生產(chǎn)企業(yè)得到應(yīng)用，為用戶減少了研發(fā)、組裝、驗(yàn)證時(shí)間，大大降低了用戶的總體生產(chǎn)成本。

更多氣路盤(pán)整體解決方案請(qǐng)咨詢GRYLLS。